光刻机
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收费标准
机时0元/小时 -
设备型号
URE2000S -
当前状态
其它 -
管理员
姚乾坤 Qiankun YAO -
放置地点
W3-
- 仪器信息
- 预约资源
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名称
光刻机
资产编号
0210000049
型号
URE2000S
规格
产地
厂家
中科光电
所属品牌
出产日期
购买日期
所属单位
波功能超材料中央实验室 Wave Functional Metamaterial Research Facility
使用性质
科研
所属分类
资产负责人
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联系电话
联系邮箱
放置地点
W3-
- 主要规格&技术指标
主要规格&技术指标
URE-2000S采用CCD图像底面对准技术，单曝光头正面曝光实现双面对准的总体设计技术。采用新颖的高精度、多自由度掩模—样片精密对准工件台结构设计，掩模—样片对准过程直观，套刻对准速度快、精度高。掩模板与样片的放置采用推拉式基准平板、真空吸附式，操作方便。
1、曝光面积：110mm×110mm
2、曝光波长：365nm
3、分辨力：1.2μm（胶厚1.5um的正胶）
4、对准精度：单面±0.8μm，双面±2.5μm
5、掩模尺寸：3寸、4寸、5寸
6、承片台：2寸、3寸、4寸
7、样片尺寸直径Ф30mm--Ф150mm(可适应非标准片或碎片) 厚度0.1mm-6mm
8、照明均匀性：±3.5%（Ф100mm范围）±5%（Ф150mm范围）
9、掩模相对于样片运动行程： X:±5mm; Y:±5mm; θ: ±6度
10、汞灯功率：1000W（直流）
11、曝光方式：定时（倒计时0.1s-999.9s）
12、最大胶厚：400um
13、光源平行性：6度
14、双目双视场显微镜：物镜三队：4X、10X、20X，目镜三对：10X、16X、20X
请通过WFMRF官网（https://wfmrfshare.hkust-gz.edu.cn/）进行预约，谢谢！
1、曝光面积：110mm×110mm
2、曝光波长：365nm
3、分辨力：1.2μm（胶厚1.5um的正胶）
4、对准精度：单面±0.8μm，双面±2.5μm
5、掩模尺寸：3寸、4寸、5寸
6、承片台：2寸、3寸、4寸
7、样片尺寸直径Ф30mm--Ф150mm(可适应非标准片或碎片) 厚度0.1mm-6mm
8、照明均匀性：±3.5%（Ф100mm范围）±5%（Ф150mm范围）
9、掩模相对于样片运动行程： X:±5mm; Y:±5mm; θ: ±6度
10、汞灯功率：1000W（直流）
11、曝光方式：定时（倒计时0.1s-999.9s）
12、最大胶厚：400um
13、光源平行性：6度
14、双目双视场显微镜：物镜三队：4X、10X、20X，目镜三对：10X、16X、20X
请通过WFMRF官网（https://wfmrfshare.hkust-gz.edu.cn/）进行预约，谢谢！
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