磁控溅射系统
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收费标准
机时登录后查看 -
设备型号
Angstrom Engineering Amod -
当前状态
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管理员
何锦德 Jinde HE 020-88332915 -
放置地点
W3-621A
- 仪器信息
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- 附件下载
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名称
磁控溅射系统
资产编号
BESTLab00018
型号
Angstrom Engineering Amod
规格
产地
美国
厂家
Angstrom Engineering
所属品牌
Angstrom Engineering
出产日期
购买日期
所属单位
超级能源科技主题实验室 Brilliant Energy Science and Technology Lab
使用性质
科研
所属分类
资产负责人
--
联系电话
020-88332915
联系邮箱
BESTLAB@hkust-gz.edu.cn
放置地点
W3-621A
- 主要规格&技术指标
主要规格&技术指标
1. 系统安装有3 个 3英寸磁控溅射源，溅射靶枪可灵活调节，靶材为卡箍式固定方式；
2. 系统安装有 1 个 3 英寸磁性增强磁控溅射源，靶材为卡箍式固定方式，能够沉积多达0.125 英寸厚的磁性材料；
3. 配备 2 个 1.5KW 的直流电源和 2 个 300 W 的射频电源；
4. 配有可以安装 100mm×100mm基片的样品台；
5. 样品台带有旋转和掩膜板固定功能，可连续调节范围 10-30 RPM；
6. 样品台具有加热功能，加热台温度范围：室温-600 °C；
7. 镀膜控制软件：全自动高精度控制系统，溅射速率优于 0.1 Å /s，膜厚显示分辨率可到 0.01 Å，4 英寸范围内薄膜不均匀性优于±5%。
2. 系统安装有 1 个 3 英寸磁性增强磁控溅射源，靶材为卡箍式固定方式，能够沉积多达0.125 英寸厚的磁性材料；
3. 配备 2 个 1.5KW 的直流电源和 2 个 300 W 的射频电源；
4. 配有可以安装 100mm×100mm基片的样品台；
5. 样品台带有旋转和掩膜板固定功能，可连续调节范围 10-30 RPM；
6. 样品台具有加热功能，加热台温度范围：室温-600 °C；
7. 镀膜控制软件：全自动高精度控制系统，溅射速率优于 0.1 Å /s，膜厚显示分辨率可到 0.01 Å，4 英寸范围内薄膜不均匀性优于±5%。
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