磁控溅射镀膜设备 Magnetron Sputtering Equipment
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收费标准
机时0元/小时 -
设备型号
Explorer18 -
当前状态
其它 -
管理员
姚乾坤 Qiankun YAO 020-88338523 -
放置地点
W3-
- 仪器信息
- 预约资源
- 附件下载
- 公告
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名称
磁控溅射镀膜设备 Magnetron Sputtering Equipment
资产编号
0205000009
型号
Explorer18
规格
产地
厂家
DENTON
所属品牌
出产日期
购买日期
所属单位
波功能超材料中央实验室 Wave Functional Metamaterial Research Facility
使用性质
科研
所属分类
资产负责人
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联系电话
020-88338523
联系邮箱
qiankunyao@hkust-gz.edu.cn
放置地点
W3-
- 主要规格&技术指标
- 主要功能及特色
主要规格&技术指标
设备详情页：
https://wfmrfshare.hkust-gz.edu.cn/share/ucenter/equip/equipInfo?id=1
直流电源功率：0-500W；
均匀性和重复性：在4 inch衬底厚度均匀性优于±5%，重复性优于±3%；
样品尺寸：1片4 inch，向下兼容；
基底温度：0℃-500℃可调；
真空室漏率：5E-5Torr.L/s ；
极限真空：5E-7Torr。
设备环境：万级洁净室。
可送样镀膜。
请通过WFMRF官网（https://wfmrfshare.hkust-gz.edu.cn/）进行预约，谢谢！
https://wfmrfshare.hkust-gz.edu.cn/share/ucenter/equip/equipInfo?id=1
直流电源功率：0-500W；
均匀性和重复性：在4 inch衬底厚度均匀性优于±5%，重复性优于±3%；
样品尺寸：1片4 inch，向下兼容；
基底温度：0℃-500℃可调；
真空室漏率：5E-5Torr.L/s ；
极限真空：5E-7Torr。
设备环境：万级洁净室。
可送样镀膜。
请通过WFMRF官网（https://wfmrfshare.hkust-gz.edu.cn/）进行预约，谢谢！
主要功能及特色
用于沉积Ti、Cr、Au、Pt、Cu等金属薄膜。
预约资源
附件下载
公告
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