三离子束研磨仪
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收费标准
机时免费 -
设备型号
EMTIC3X -
当前状态
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管理员
徐礼威 William Liwei XU 13535525083 -
放置地点
W3-L4-436
- 仪器信息
- 预约资源
- 附件下载
- 公告
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名称
三离子束研磨仪
资产编号
0210006114
型号
EMTIC3X
规格
产地
厂家
徕卡
所属品牌
出产日期
购买日期
2024-10-29
所属单位
微系统异构集成与封装中心 Center for Heterogeneous Integration of Microsystems and Packaging
使用性质
科研
所属分类
其他通用设备
资产负责人
欧阳翩 Penny Pian OUYANG
联系电话
13535525083
联系邮箱
chipgz@hkust-gz.edu.cn
放置地点
W3-L4-436
- 主要规格&技术指标
- 主要功能及特色
主要规格&技术指标
eica EM TIC 3X 三离子束切割仪可制备横切面和抛光表面，用于扫描电子显微镜 (SEM)、微观结构分析 (EDS、WDS、Auger、EBSD) 和 AFM 科研工作。
使用 Leica EM TIX 3X，您几乎可以在室温或冷冻条件下，对任何材料实现高品质的表面处理，尽可能显示样品近自然状态下的内部结构。
设备介绍：
https://cn.leica-microsystems.com.cn/product/sample-preparation-for-electron-microscopy/ion-beam-milling-systems/leica-em-tic-3x
https://cn.leica-microsystems.com.cn/technology/nano/Leica_EM_TIC_3X_Operating_Instructions
使用 Leica EM TIX 3X，您几乎可以在室温或冷冻条件下，对任何材料实现高品质的表面处理，尽可能显示样品近自然状态下的内部结构。
设备介绍：
https://cn.leica-microsystems.com.cn/product/sample-preparation-for-electron-microscopy/ion-beam-milling-systems/leica-em-tic-3x
https://cn.leica-microsystems.com.cn/technology/nano/Leica_EM_TIC_3X_Operating_Instructions
主要功能及特色
几乎任何材质样品都可获得高质量截面，在没有任何变形或损伤的情况下揭开样品内部最真实结构信息，在使用徕卡EM TIC3X之前，这类工作从未变得如此之简单。徕卡EM TIC 3X三离子束切割仪适宜处理软/硬复合、带有孔缝结构、热敏感性、脆性及非均质样品，获得样品截面，从而进行扫描电子显微镜（SEM），微区分析（EDS，WDS，Auger，EBSD）及原子力显微镜或扫描探针显微镜(AFM，SPM)检测。三离子束（分别独立控制），冷冻样品台及多样品台，确保离子束对样品处理高效，切割区域宽且深，从而获得高质量截面切割结果。
徕卡EM TIC 3X是一款离子束研磨仪，用于制备扫描电子显微镜样品。可以制备样品的横截面以及大面积表面。
样品的横截面还可以使用低能离子束再次处理。该处理过程既可以清洗横截面，也能增强其衬度。
另外，EM TIC 3X可以通过离子束抛光工艺改进样品的机械抛光表面。样品表面的最大离子束制备直径为25mm，最大样品直径为38mm。
离子束抛光可以清洗、抛光样品表面，并增强其衬度，可以在一台仪器中完成所有类型的扫描电子显微镜样品制备流程。
徕卡EM TIC 3X是一款离子束研磨仪，用于制备扫描电子显微镜样品。可以制备样品的横截面以及大面积表面。
样品的横截面还可以使用低能离子束再次处理。该处理过程既可以清洗横截面，也能增强其衬度。
另外，EM TIC 3X可以通过离子束抛光工艺改进样品的机械抛光表面。样品表面的最大离子束制备直径为25mm，最大样品直径为38mm。
离子束抛光可以清洗、抛光样品表面，并增强其衬度，可以在一台仪器中完成所有类型的扫描电子显微镜样品制备流程。
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