匀胶机（黄光洁净室）
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收费标准
机时0元/小时 -
设备型号
WS-650MZ-23NPPB -
当前状态
其它 -
管理员
姚乾坤 Qiankun YAO -
放置地点
W3-
- 仪器信息
- 预约资源
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- 公告
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名称
匀胶机（黄光洁净室）
资产编号
0205000013
型号
WS-650MZ-23NPPB
规格
产地
厂家
Laurell
所属品牌
出产日期
购买日期
所属单位
波功能超材料中央实验室 Wave Functional Metamaterial Research Facility
使用性质
科研
所属分类
资产负责人
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联系电话
联系邮箱
放置地点
W3-
- 主要规格&技术指标
主要规格&技术指标
美国Laurell 650型匀胶机适应于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺，制版的表面涂覆。MYCRO的MSC系列匀胶机具有稳定的转速和快速的启动，可以保证半导体中胶厚度的一致性和均匀性，这正是650型匀胶机的特点。
1、腔体尺寸：12.5英寸 (381 毫米)；
2、Wafer芯片尺寸：10-200mm直径的材料，方片178x178mm，小于10mm提供3mm转接盘）；
3、转动速度：0-12,000rpm，
4、旋涂加速度：0-30000rpm/sec（空载）；
5、马达旋涂转速：稳定性能误差 ＜ ±1%；
6、转速调节精度：＜0.2rpm，重复性＜ 0.2rpm；
7、工艺时间设定：1-5999.9 sec/step 0.1 精度；
8、高精度数码控制器：PLC控制，设置点精度小于0.006%。
9、程序控制：可存储20个程序段，每个程序段可以设置51步不同的速度状态；
10、分辨率：分辨率小于0.5转/分，可重复性小于±0.5转/分
仅限旋涂光刻胶，旋涂其他材料请使用理化实验室匀胶机。
请通过WFMRF官网（https://wfmrfshare.hkust-gz.edu.cn/）进行预约，谢谢！
1、腔体尺寸：12.5英寸 (381 毫米)；
2、Wafer芯片尺寸：10-200mm直径的材料，方片178x178mm，小于10mm提供3mm转接盘）；
3、转动速度：0-12,000rpm，
4、旋涂加速度：0-30000rpm/sec（空载）；
5、马达旋涂转速：稳定性能误差 ＜ ±1%；
6、转速调节精度：＜0.2rpm，重复性＜ 0.2rpm；
7、工艺时间设定：1-5999.9 sec/step 0.1 精度；
8、高精度数码控制器：PLC控制，设置点精度小于0.006%。
9、程序控制：可存储20个程序段，每个程序段可以设置51步不同的速度状态；
10、分辨率：分辨率小于0.5转/分，可重复性小于±0.5转/分
仅限旋涂光刻胶，旋涂其他材料请使用理化实验室匀胶机。
请通过WFMRF官网（https://wfmrfshare.hkust-gz.edu.cn/）进行预约，谢谢！
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