精研一体机
-
0/人使用者
-
0/次机时次数
-
0/小时总时长
-
0/次送样次数
-
0/人收藏者
-
收费标准
机时免费 -
设备型号
EMTXP -
当前状态
-
管理员
徐礼威 William Liwei XU 13535525083 -
放置地点
W3-L4-436
- 仪器信息
- 预约资源
- 附件下载
- 公告
- 同类仪器
名称
精研一体机
资产编号
0210006115
型号
EMTXP
规格
产地
厂家
徕卡
所属品牌
出产日期
购买日期
2024-10-29
所属单位
微系统异构集成与封装中心 Center for Heterogeneous Integration of Microsystems and Packaging
使用性质
科研
所属分类
其他通用设备
资产负责人
欧阳翩 Penny Pian OUYANG
联系电话
13535525083
联系邮箱
chipgz@hkust-gz.edu.cn
放置地点
W3-L4-436
- 主要规格&技术指标
主要规格&技术指标
徕卡精研一体机EM TXP正是用于制备TEM样品离子减薄薄片的利器！相比传统的切割、磨抛、体视镜观察各个步骤需要不同的仪器分开实现，EM TXP一体集成多种加工附件，包括切、磨、抛、铣、钻等机械加工功能，还标配专业级体视显微镜，可以实时观察样品的加工情况。除此之外，EM TXP的高精度主轴可以实现高精度加工控制和应力反馈保护脆弱易碎样品，显著提升样品加工效率和制样成功率。
精研一体机徕卡EM TXP 标靶面制备系统具有定点修块抛光功能，是用锯，磨，铣削，抛光样品后，供扫描电镜，透射电镜，和LM技术检测。
精研一体机徕卡EM TXP 带有一体化体视镜，用于精确定位及对较细微难以观察的目标位置进行样品处理时观察；使用样品旋转手柄，可以改变样品观察角度，0°－60°可调，或者垂直于样品前表面90°观察，可利用目镜刻度标尺测量距离。
设备介绍：
https://cn.leica-microsystems.com.cn/product/sample-preparation-for-electron-microscopy/ion-beam-milling-systems/leica-em-txp
精研一体机徕卡EM TXP 标靶面制备系统具有定点修块抛光功能，是用锯，磨，铣削，抛光样品后，供扫描电镜，透射电镜，和LM技术检测。
精研一体机徕卡EM TXP 带有一体化体视镜，用于精确定位及对较细微难以观察的目标位置进行样品处理时观察；使用样品旋转手柄，可以改变样品观察角度，0°－60°可调，或者垂直于样品前表面90°观察，可利用目镜刻度标尺测量距离。
设备介绍：
https://cn.leica-microsystems.com.cn/product/sample-preparation-for-electron-microscopy/ion-beam-milling-systems/leica-em-txp
预约资源
附件下载
公告
同类仪器
