高真空溅射镀膜仪 Vacuum Thin Film Sputter Q150T Plus

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收费标准

机时
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设备型号

Q150T Plus

当前状态

管理员

陈海滨 Haibin CHEN,何颜玲 Yanling HE

放置地点

W2-123
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名称

高真空溅射镀膜仪 Vacuum Thin Film Sputter Q150T Plus

资产编号

MC-MP-0006

型号

Q150T Plus

规格

产地

厂家

Quorum

所属品牌

出产日期

购买日期

所属单位

材料表征与制备中央实验室 Materials Characterization and Preparation Facility (GZ)

使用性质

科研

所属分类

MCPF-材料制备 Material Preparation

资产负责人

陈海滨 Haibin CHEN

联系电话

联系邮箱

chenhb@hkust-gz.edu.cn

放置地点

W2-123
  • 主要规格&技术指标
  • 主要功能及特色
主要规格&技术指标
1. 真空度可达5x10-5mbar;
主要功能及特色
1. 设备采用触摸屏控制,过程全自动操作
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