离子溅射仪 Ion Sputter MC1000
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90/人使用者
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606/次机时次数
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276/小时总时长
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3/次送样次数
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18/人收藏者
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收费标准
机时登陆后显示送样详见检测项目 -
设备型号
MC1000 -
当前状态
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管理员
陈海滨 Haibin CHEN,何颜玲 Yanling HE -
放置地点
W2-123
- 仪器信息
- 预约资源
- 检测项目
- 附件下载
- 公告
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名称
离子溅射仪 Ion Sputter MC1000
资产编号
MC-MP-0007
型号
MC1000
规格
产地
厂家
日立
所属品牌
出产日期
购买日期
所属单位
材料表征与制备中央实验室 Materials Characterization and Preparation Facility (GZ)
使用性质
科研
所属分类
MCPF-材料制备 Material Preparation
资产负责人
陈海滨 Haibin CHEN
联系电话
联系邮箱
chenhb@hkust-gz.edu.cn
放置地点
W2-123
- 主要规格&技术指标
- 主要功能及特色
主要规格&技术指标
1. 样品最大直径：60 mm；2. 样品最大高度：20 mm；
主要功能及特色
1. 双功能，喷金与喷碳
预约资源
检测项目
附件下载
公告
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